别自嗨了！中科院发布5nm光刻技术 并帮不上华为的忙！

众所周知，最近一段时间，有关芯片和光刻机的话题持续不断，主要是因为华为和台积电之间的代工合作，可能会由于美国的施压而泡汤！一旦泡汤之后，华为可能会面临无芯可用！虽然大陆地区也有中芯国际这样的代工厂商，但是长期以来，中芯国际的工艺水平，无法媲美台积电，所以说，台积电那边一旦有变故，华为的处境就比较严峻了！

中科院发布5nm工艺光刻技术，华为有救了？

就在国人纷纷为华为的未来感到手足无措之时，中科院传来了好消息！根据相关媒体的报道，中科院发布了5nm激光光刻技术，这个技术的主要作用则是能够实现纳米狭缝电极阵列结构的规模生产。对于这个成就，不少国人都非常兴奋，甚至不少人发出了华为有救的声音！

中科院的这个技术，真的有那么厉害吗？在笔者看来，并非如此！目前，已经有专业人士进行了辟谣，他们认为，中国推出的这个5nm光刻技术，和集成电路压根就不是一回事，也就是说，这项技术的推出，根本无法帮助中芯国际提升芯片生产工艺！

很多人可能不明白这里面的逻辑关系！其实，通俗点来讲，中科院的光刻技术可以用来光刻，但是并不一定能够应用于光刻机方面，所以，很多人显然是高估了中科院的这个技术！

其实，当前卡在中芯国际提升技术的重要原因之一，就是EUV光刻机的问题，这个极紫外光刻机堪称是国之重器，目前全球仅有荷兰ASML公司能够研发生产，不过，由于众所周知的原因，中芯国际虽然一直想买这个EUV光刻机，但是始终未能到货！

自嗨之后，还得踏实奋进！

在笔者看来，中科院的这个技术，让很多国人陷入了自嗨模式，如果不是专业人士的及时辟谣，很多人可能还沉浸其中！在笔者看来，自嗨反应的恰好是国人对于提高我们自身芯片研发的迫切心情，这种自嗨也是可以理解的！

但是，在自嗨之后，我们应该更清醒的认识到，我们在芯片方面的差距不仅很远，而且在短期内也是难以超越的！这并不是贬低我们自己，而是事实！当前，国内在芯片代工方面的最先进水平也就是中芯国际的14nm技术，而台积电已经发展到了5nm,根据权威报告显示，中芯国际要想实现5nm生产技术，最早也需要在2024年！

除了代工技术的落户之外，我们在光刻机方面的生产水平也是非常落后的，目前我们国内生产的光刻机，也仅仅能够制造90nm的芯片！所以，无论从光刻机还是芯片代工技术方面来看，我们都是全面落后的，这种落后就是我们国家芯片方面的最大现实！所以，在认清这种现实情况后，我们应该要做的，不应是急于求成，而应是踏实奋进，这样我们才能看到希望！

对此，大家怎么看呢？